CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺（jiàn）射”就（jiù）是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出（chū）的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜（jìng）止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數（shù）電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下（xià），加（jiā）速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材（cái）發生濺射。 

廣泛應用於家電電器（qì）、鍾表、高爾夫球（qiú）頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾（shì）性鍍膜及工模具的功能塗層，在（zài）鍍（dù）製超（chāo）黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性（xìng）好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且（qiě）濺射鍍膜可以在較大的（de）表麵上（shàng）獲得厚度均勻的（de）膜（mó）層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層（céng）；
3）、製備特殊材料的（de）薄膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混（hún）合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿（fǎng）金（jīn）膜；
4）、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋（guō）加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。