CJ係列磁控（kòng）濺射真（zhēn）空鍍（dù）膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體（tǐ）表（biǎo）麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年（nián）Grove在實驗室中就發現了這（zhè）種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線（xiàn）形，均勻電場和對數電場（chǎng）則分別用於平麵靶和同軸圓柱（zhù）靶。電子在電（diàn）場作用下，加速飛向（xiàng）基片的過程中與（yǔ）氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則（zé）電離出Ar+並（bìng）產生電子，電子飛向基（jī）片（piàn），Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（jí）（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材（cái）發生濺射。 

廣泛應（yīng）用於家電電器、鍾表（biǎo）、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機（jī）按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的（de）功能塗層，在鍍製超黑（hēi）膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重（chóng）複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺（jiàn）射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度（dù）均勻（yún）的膜層；
2）、薄膜與基片的附著（zhe）力強。部分高能（néng）量的濺射原子（zǐ）產（chǎn）生不同程（chéng）度的注入現象，在基片上形（xíng）成（chéng）一層（céng）濺射原（yuán）子與基片原子相互溶合的偽（wěi）擴散層；
3）、製備特殊材料的薄（báo）膜，可以使（shǐ）用（yòng）不同的材料（liào）同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器（qì）材料的成份（fèn）。
5 )、裝（zhuāng）備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能（néng）。