磁控濺射是（shì）一種 (PVD) 工藝，是製造（zào）半導體、磁盤驅動器（qì）、CD 和光學器件的主要薄膜沉積方（fāng）法。以（yǐ）下是（shì）磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的原因和相關解（jiě）決方案供您參考。

● 問題一：薄膜灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗淡無（wú）光澤
● 問題三：薄（báo）膜顏（yán）色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有（yǒu）水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純（chún）度小於99.9%；氬氣應更換為純度（dù）為（wéi） 99.99%。
丨充（chōng）氣係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏氣。
丨薄膜未充分固化；薄膜（mó）的固化時間應適當延長。
丨鍍件排出的氣體量過大；應進行幹燥和密封。

 漆膜表（biǎo）麵無（wú）光澤 
丨薄膜固化不良或變質；應延長薄膜固化時間或（huò）更換底漆。
丨磁控濺（jiàn）射時間過長；施工時間應適當縮短。
丨磁（cí）控濺射成（chéng）膜速度太（tài）快；磁控濺射電（diàn）流或電壓應適當降低。

 薄膜顏色不均勻（yún） 
丨底漆噴塗不均；底漆的使用方法有待改進。
丨膜層太薄（báo）；應適當（dāng）提高磁控濺射速率或延長磁控濺射時間。
丨夾具設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍件（jiàn）幾何形狀過於複雜；鍍件的轉（zhuǎn）速應適當提高。

 起（qǐ）皺、開裂 
丨底漆噴得太厚；應控製噴霧的（de）厚度（dù）。
丨塗層粘度過高；應適當（dāng）降低（dī）塗（tú）料的（de）粘度。
丨蒸發速（sù）度過快；蒸發（fā）速度應適當減慢（màn）。
丨膜層太厚；濺射時間應適當（dāng）縮短。
丨電鍍溫度過高；鍍件的（de）加熱時（shí）間應適當縮短。

 薄膜（mó）表麵有水印（yìn）、指紋和灰粒 
丨鍍件清洗後未充分幹燥；應加強鍍前處理。
丨在鍍件表麵潑水或唾液；加強文明（míng）生產，操作人員戴口（kǒu）罩。
丨塗底漆後，手接觸鍍件，表麵留下（xià）指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過濾或除塵。
丨（shù）靜電除塵失敗或噴塗固化環境有顆粒粉塵；應更換除塵器並清潔工作環境。


除以上常用材料外，金屬（shǔ）靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳（měng）、銅、鋅、銦、錫、等，均有在（zài）鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸、鎢鉬（mù）等。

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