如何掌控真空鍍膜的均勻性
我們先來認識（shí）下怎麽（me）調試鍍膜機，因為掌握調（diào）試鍍膜（mó）機是使用鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備（bèi）的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能；
2、測（cè）試設備的密封性（xìng）能，就是抽到極限後保（bǎo）壓1小時看（kàn）壓降（jiàng）是否達標，同時排除（chú）細小的漏孔；
3、產（chǎn）品試作，檢驗其他的性（xìng）能，比（bǐ）如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測試應作（zuò）記錄，並有記錄人簽字以（yǐ）及有使用部門或工程部（bù）門的人確認簽（qiān）字

怎麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於（yú）車燈鍍膜機原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度（dù）而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相（xiàng）同。並且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度（dù）上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以（yǐ）輕鬆將粗糙度控製在（zài）可見光波長的1/10範圍內，也就（jiù）是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均（jun1）勻（yún）度，也（yě）就（jiù）是說要實現10A甚（shèn）至1A的（de）表麵（miàn）平整，是現在真空鍍膜中主要（yào）的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而（ér）很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控（kòng）濺射鍍膜機過程不科（kē）學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比（bǐ）例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在（zài）。
3、晶格有序度的均勻性：這決（jué）定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的（de）熱點問題。 

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