集成了多（duō）弧離子鍍膜與磁控濺射鍍膜兩種沉積技術（shù）與一體化（huà），特別（bié）適用於鍍製多種金屬膜，也可以（yǐ）鍍多層膜、合金膜及化學物質，如鍍超硬耐（nài）磨損膜、防腐蝕膜、裝飾…[詳細]

WJZ係（xì）列無介質獨立膜電阻蒸發真空鍍膜（mó）機的原理是在真空室中將金屬材料（鋁（lǚ）、鎳（niè）、錫等）利用電阻蒸發（fā）技術（shù）將材（cái）料汽化，汽（qì）化後的金（jīn）屬分子產生（shēng）飛逸沉積於基材的表…[詳細]

ZGD係列連續式滾動真空鍍膜設備是采用先進的蒸發及大麵積離子鍍膜工藝與滾動技術，即可（kě）鍍製功能膜，同（tóng）時（shí）也能在功能膜層上鍍製保護膜。兩道工藝，一次（cì）完成，極（jí）…[詳細（xì）]

當蒸發材料如鋁絲裝在高電阻材料上,通過電流（liú）產生焦耳（ěr）熱高溫作用下,瞬（shùn）間將蒸發材料汽華蒸發遷移到基材表麵,沉積成（chéng）膜。[詳細（xì）]

離子鍍是真空室中，利用氣體放（fàng）電或被（bèi）蒸發物質部分離（lí）化，在氣體離子或被（bèi）蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片（piàn）上。離子（zǐ）鍍把輝光放電現象、…[詳細]