化學氣相沉積是一種製備材料的氣相（xiàng）生長方法，它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化（huà）合物、單質氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應（yīng）在基體表麵上沉（chén）積（jī）固（gù）態薄膜的工藝技術。化（huà）學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是反應（yīng）物（wù）質（zhì）在氣態條件下發生化學反應，生成固態物質（zhì）沉積在加熱的固態基（jī）體表（biǎo）麵，進而製（zhì）得固體材（cái）料的工藝技術。它（tā）本質上（shàng）屬（shǔ）於原子範（fàn）疇的氣態傳（chuán）質過程。與（yǔ）之相對的是物理氣相（xiàng）沉積（PVD）。