本文從係統結構、參數控製和鍍膜（mó）方式等綜（zōng）述了（le）真空卷繞鍍膜技術研究進展。按（àn）結構可分為單室、雙室和（hé）多室真空卷繞係統，後兩者（zhě）可解決（jué）開卷放氣問（wèn）題並分別控製卷（juàn）繞和（hé）鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型（xíng），錐（zhuī）度控製模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問（wèn）題；間接張力控製無（wú）需傳感器，可用（yòng）內置張力控製（zhì）模塊（kuài）的矢量變頻器代替；直接張（zhāng）力控製通過張力傳感器（qì）精確測量張力值，但（dàn）需慣性（xìng）矩和（hé）角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁（cí）控濺射（shè）等方式，可用於製備新型高（gāo）折射率薄膜、石墨烯（xī）等納米材料（liào）和柔性太陽能電池等（děng）半（bàn）導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究現狀及向產業化過渡存在的問題，最後作了簡要分析與展望。

　　真（zhēn）空卷繞鍍（dù）膜(卷對卷)是在真空下（xià）應用不同方法在柔性基（jī）體上實現連續鍍膜的一種技術。它（tā）涵蓋（gài）真空獲得、機電控（kòng）製、高（gāo）精傳動和表麵分析等多方麵內容。其重點是，在保證鍍膜質量前提下（xià）提高卷（juàn）繞速率、控製（zhì）鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技術（shù）成本低、易操作（zuò）、與柔性基底相（xiàng）容、生（shēng）產率高及（jí）可連（lián）續鍍多層膜（mó）等優（yōu）點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現可鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾（shì）用膜，近年逐漸（jiàn）擴大至激光防偽（wěi）膜、導電等功能薄膜方麵，是未來柔（róu）性電（diàn）子等行業的主流技（jì）術之一。

　　目前，國際前沿（yán）是研究不同製備（bèi）工藝下功能薄膜特性並完善複合（hé）膜層製備。卷繞鍍膜（mó）機有向大型工業化和小型科研化方向發展的兩種趨勢，國內蘭州（zhōu）真空設備、廣東（dōng）中環真空設備等公司多生產大型工業卷繞設備， 國外如（rú）TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構提供小型或微型卷（juàn）繞鍍膜機（jī）。

        真空（kōng）卷繞鍍膜設備分類
　　真空卷對卷設（shè）備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組成。據真空室有無擋板，可分單室、雙室和（hé）多室結構。單（dān）室的收放卷輥和鍍（dù）膜輥在同一室（shì）中，結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙（xì）約1.5mm，避免了類似開卷放氣問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾（rǎo）。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。

　　分隔擋板與真空室壁狹縫越（yuè）小越好。據鍍膜時輥筒作（zuò）用分為單主輥和（hé）多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數（shù），則可分為兩電機（jī）、三電機和四電機驅動係統。

        總結與（yǔ）展望

　　真空卷繞鍍膜因其大麵積、低成本、連續性等特點，比間歇式鍍膜有很大優勢，廣受國內外研究者和企（qǐ）業關注。當前（qián）卷繞鍍膜技術進展較快，解決了（le）鏤（lòu）空線、白條、褶皺等問題，開始用於製備石墨烯、有機太陽能電池和透明導電薄膜等新型功能（néng）介質與器件。故對製膜過程和成膜質量提出了（le）更高要求，真空（kōng）機組主泵選擇從大抽速擴散泵發展到無油超高真空分子（zǐ）泵和低溫泵，開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄膜拉伸變形。張力控（kòng）製多（duō）用考慮夾感（gǎn）應張力的收卷模型和單跨非線性動力學的放卷模型。

　　目前卷繞鍍（dù）膜的精密控製（zhì）有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去除基底（dǐ）和石墨烯間的熱解（jiě）膠，且卷繞速度（dù）過快或基底較硬引發（fā）的切應力會使石墨（mò）烯層形成裂縫或孔洞。又（yòu）如，真空卷（juàn）繞發製備的有機薄膜表麵缺（quē）陷多，載流子（zǐ）遷移率較低，進而嚴重影響其器件（jiàn）的光電特性。未來應增設薄膜應（yīng）力等測控單元，融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空（kōng）噴射（shè）和原（yuán）位聚合等成膜技術，為開（kāi）發新型有機及其無機複合功能薄膜和器件提（tí）供保障。

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