真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待（dài）鍍（dù）材料和被鍍基板於（yú）室內，

真空鍍膜機（jī）多弧離子鍍膜采用一定方（fāng）法加熱待鍍材料，使（shǐ）之蒸發或升華，並（bìng）飛行濺射到（dào）被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條（tiáo）件下（xià）成膜有很多優點，可減（jiǎn）少蒸發材料的（de）原子（zǐ）、分子在飛向基板過（guò）程（chéng）中於分子（zǐ）的碰撞，

減少氣體中的活性分子和（hé）蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣（qì）體分子進入薄膜中成（chéng）為雜質的量，從（cóng）而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的（de）附著力。

真（zhēn）空鍍膜設備多弧離（lí）子鍍膜工藝不僅避免了傳（chuán）統表麵（miàn）處理的不足，且各項技術指（zhǐ）標都優於傳統工藝，在五金、機械（xiè）、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處（chù）理工藝（yì）相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子（zǐ）鍍膜鎳的二分之一，真空（kōng）鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可（kě）反複利用，大大（dà）降低（dī）了成本。