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真空蒸(zhēng)鍍之工藝對(duì)比

作者: 來(lái)源: 日期(qī):2020-09-02 11:14:18 人氣:181466
1. 電阻蒸發源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔(róng)點金屬做成適當形狀蒸(zhēng)發(fā)源,電流通過直接加熱。 


B. 優點:結構簡單、造價便宜、使用可靠


C. 缺點:所能到到的最高溫度(dù)有限,加熱器壽命較短


D. 適合:熔點不太高,尤其對膜層質量要求不(bú)大(dà)高(gāo)的大批量生產。 


 2. 電子束蒸發源蒸鍍發(fā) 


A. 蒸發材料放入冷水鉗鍋中,利用電子束(shù)加熱


B. 優點:獲得更大(dà)能量密度,使高熔(róng)點材料蒸發且速度快,膜的純度較高,熱效率(lǜ)高。


C. 分類:環形槍,直槍(qiāng),e型槍和空心陰極槍等幾種。


D. 適合:高熔點,純(chún)度要(yào)求高的材料(liào)。
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