氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜來說是（shì）極其重要（yào）的（de），通過機械結構設（shè）計，使氣體密度的（de）變化率在濺射沉積區域內（nèi）的盡量（liàng）小。

而在區域外，使係統的（de）流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣係統的效率（lǜ）。

控製氣體分布（bù）的機械部件或結構包（bāo）括（kuò）布氣係統、真空室（shì）的結構、抽氣係（xì）統等三個部分。