對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外（wài）延鍍膜機和PLD激（jī）光濺射（shè）沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成（chéng）蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設（shè）備中需要鍍膜（mó）的被成為基片，鍍的材（cái）料被成為靶材。
基片（piàn）與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍（dù）膜（mó）一般是加熱靶材（cái）使表（biǎo）麵組分以（yǐ）原子團或離子形式被蒸發出來，並（bìng）且沉降在基片表麵，通過成（chéng）膜（mó）過程形成薄膜。

真空鍍膜機對於（yú）濺射類鍍膜，可以簡單（dān）理解為利（lì）用電（diàn）子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分（fèn）以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終（zhōng）沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜（mó）。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙（shuāng）層水冷結構。

根據工藝要求選（xuǎn）擇不（bú）同規格及類型（xíng）鍍膜設備，其類型（xíng）有電（diàn）阻蒸發真空鍍膜設備、電子束（shù）蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子（zǐ）鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉（zhuǎn）方式，用（yòng）戶可根據片尺寸及形狀提（tí）出相應要求，轉動的速度範圍及轉動精度：普通可調及變頻（pín）調速等。