用（yòng）來進（jìn）行介質膜的濺射（shè），如在玻璃（lí）上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散（sàn）隔離層，該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射（shè）過程（chéng）中（zhōng）輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會與陰極的電子中和，是的濺射現象可以繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有電子中和，
正電荷一（yī）直累積，使與後來的離（lí）子排斥，這會造成取代直流電源，使（shǐ）可解決（jué）此離子撞（zhuàng）擊現象的停頓。
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