磁控濺射真空鍍膜機需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為（wéi）靶（bǎ）材。 基（jī）片與靶材同在真空（kōng）腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉（chén）降在基片表麵，通過成膜（mó）過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解（jiě）為利用電子或高（gāo）能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺（jiàn）射出來，並且最終沉積在基片表麵，經（jīng）曆成膜過程，最（zuì）終形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開（kāi）總電源。
3、開維（wéi）持泵、真空（kōng）計電源，真空計檔位置V1位（wèi）置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需（xū）5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開（kāi）渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開關換到V2位置，抽（chōu）到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子（zǐ）泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高真（zhēn）空閥繼續抽真空，抽（chōu）真空到達一定（dìng）程度後才能（néng）開右邊的高真（zhēn）空（kōng）表頭，觀察真空度。真（zhēn）空到達2×10-3以後才能打（dǎ）開電（diàn）子槍電源。

DEF-6B操（cāo）作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍控製Ⅰ和（hé）電子槍控製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源（yuán）及保護燈亮，三（sān）分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流（liú）繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓（yā），高壓會達到10KV以上，調節束流可（kě）到200mA左右，簾柵為（wéi）20V/100mA，燈（dēng）絲電（diàn）流1.2A，偏（piān）轉電流在1~1.7之間（jiān）擺動。

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