真空蒸（zhēng）發鍍膜法（簡稱真（zhēn）空蒸鍍法（fǎ），Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空（kōng）條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化（huà）物）到一定溫（wēn）度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化（huà）逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由於（yú）真空蒸鍛法的主（zhǔ）要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要（yào）求在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的不同（tóng）可分為電阻法、電（diàn）子（zǐ）束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。